Μονοκρυσταλλική n - Τύπος

ένα. Ανώτερη διάρκεια ζωής μεταφορέα

• Το μονοκρυσταλλικό n - τύπος χρησιμοποιεί το υπόστρωμα πυριτίου με φωσφόρο - με σιλικόνες με φορέα που υπερβαίνουν τα 2ms, μειώνοντας σημαντικά τις απώλειες του ηλεκτρονίου - οπών.
• Advanced hydrogenation passivation technology further enhances minority carrier diffusion length (>500μm), ένα βασικό ενισχυτή απόδοσης για αυτήν την τεχνολογία.

σι. Συμβατότητα με διχαλική σχεδίαση

• Υποστηρίζει την παραγωγή Bifacial Power (παράγοντας διχαλικότητας έως και 85%), καταγράφοντας το ανακλώμενο φως από τις επιφάνειες του εδάφους για να ενισχύσει τη συνολική απόδοση κατά 10-25%.
• Διαφανές επιλογές backsheet είναι διαθέσιμες για εξειδικευμένες εφαρμογές (π.χ. Agrivoltaics), επεκτείνοντας την ευελιξία του μονοκρυσταλλικού n - τύπου.

ένα. Οξυγόνο - ελεύθερη ανάπτυξη κρυστάλλων

Η διαδικασία Czochralski με περιορισμό μαγνητικού πεδίου επιτυγχάνει περιεχόμενο οξυγόνου<5ppma, minimizing thermal degradation risks.

σι. Atomic - Επίπεδο επιφανειακής μηχανικής

Nano - Μπροστινή επιφάνεια (μέγεθος πυραμίδας<1μm) combined with triple-layer ARC coating:

(75nm) / sinₓ (80nm) / tio₂ (50nm) στοίβα για<2% reflectivity across 300-1200nm spectrum.

ντο. Προχωρημένη μεταλλοποίηση

9 - Σχεδιασμός busbar με υβριδικό πάστα αργύρου-αλουμινίου μειώνει την αντίσταση σε σειρές σε 0,8mΩ · cm².

LASER - Υποβοηθούμενη επιλεκτική διαμόρφωση πομπού βελτιστοποιεί την απώλεια σκίασης εμπρός επαφής (<3%).

Specialized hydrophobic backsheet prevents biofilm accumulation, maintaining >95% απόδοση στο νερό - πλούσια περιβάλλοντα.

Προσαρμόσιμη διαφάνεια (10-40%) για τα ηλιακά παράθυρα και την ενσωμάτωση της πρόσοψης, με αποτελεσματικότητα 18%.

182mm μέγεθος πλακιδίου βελτιστοποιημένο για διατάξεις στον τελευταίο όροφο, επιτυγχάνοντας 420W+ έξοδο στο<1.8m² area.